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超高溫顯微表征的理想選擇,能夠直接用于觀察樣品在超高溫下的形態(tài)組織變化
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超高溫顯微表征的理想選擇,能夠直接用于觀察樣品在超高溫下的形態(tài)組織變化。
┃ 設備特點
溫度范圍 Rt~1500℃
溫度穩(wěn)定性 ±0.5℃
氣氛保護、真空、高壓
樣品區(qū)Φ8mm 或16x16mm
適配顯微鏡 透射 反射 正置 倒置
上一個:通用光譜冷熱臺
下一個:真空溫控探針臺
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