市面上最小的ALD，可放進(jìn)手套箱，來(lái)自美國(guó)哈佛的原子層沉積系統(tǒng)
兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，具有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。

型號(hào)：AT-200M（熱原子層沉積系統(tǒng)）

一款市面上體積最小的原子層沉積系統(tǒng)ALD

一款適用于科研的經(jīng)濟(jì)型原子層沉積系統(tǒng)ALD

一款經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的原子層沉積系統(tǒng)ALD

可做粉末的原子層沉積系統(tǒng)ALD

一款可以放入手套箱里的原子層沉積系統(tǒng)ALD

特別適合在高真空和水氧量極低環(huán)境下使用

技術(shù)參數(shù)：

·尺寸(L*W*H):35.5*38.1*56.8cm

·粉末涂層可選(容量可達(dá)~10cm^3)

·可放置2英寸x2英寸×3英寸或兩個(gè)2英寸圓片的樣品(可定制的卡盤(pán)和我們的粉末涂層選項(xiàng))

·2個(gè)前驅(qū)體端口，4個(gè)可選端口 (帶有高達(dá)150°℃的熱追蹤線，HT套件至180°C)

·可升級(jí)為空心陰極等離子體(可選)通風(fēng)前驅(qū)體外殼

·耐高溫的快速脈沖ALD閥門(mén)，配備超快MFC進(jìn)行集成惰性氣體吹掃-標(biāo)配

·全不銹鋼腔室，溫度范圍可達(dá)300°C

·靜態(tài)反應(yīng)模式下可實(shí)現(xiàn)高覆蓋

·帶集成PLC控制的5英寸顯示屏

·包括終身軟件升級(jí)

·1年保修

可選項(xiàng)：真空泵，4個(gè)端口，臭氧發(fā)生器(AT-03), 瓶加熱器，QCM,遠(yuǎn)程PC控制， ALD前驅(qū)體，手套箱，HT套件(前驅(qū)體至 180℃),起泡器，粉末噴涂機(jī)，HC等離子體。