小型臺式 ALD（原子層沉積）工具專為簡單的操作和安裝而設計，而不會犧牲其性能，用于成本效益型研究與開發。

設備介紹：

小型臺式 ALD（原子層沉積）工具專為簡單的操作和安裝而設計，而不會犧牲其性能，用于成本效益型研究與開發。

采用半導體級元件、金屬密封線和強大的PLC驅動用戶界面，可快速循環和高品質的多組分薄膜，易于維護，可重復和安全運行。

技術參數：

·尺寸L*W*H:62.3*61*40cm(4英寸) 

·最高溫度可達315℃ 

·金屬密封管道(減少大氣污染的機會) 

·3種有機金屬源(可加熱至150°C)和2種氧化劑/還原劑源(伴熱套件可加熱至180℃的), 提供額外的共反應物選件

·耐高溫的快速脈沖ALD閥門，配備超快MFC進行集成惰性氣體吹掃-標配 

·適用于4英寸、6英寸、8英寸基板，并提供可選的定制卡盤夾具(大的和多腔室(3片以上晶圓)可用)

·靜態反應模式下可實現高覆蓋

·帶集成PLC控制的7寸顯示屏 

·終身軟件升級

可供選項

·定制卡盤/底座|臭氧發生器|QCM(石英晶體微天平)丨瓶加熱件

·為您的瓶子設計起泡器|額外升級前驅體加熱管線至185℃ |手套箱集成連接

·通風前驅體外殼|異形腔體定制  |咨詢可定制系統

設備優勢

? 廠家是ALD領域的專家

? 高品質組件（半導體級線路、閥門、金屬密封（無水或空氣侵入））

? 可信賴（PLC控制-無需驅動程序升級，無需附加卡）和可靠（非常容易維護）

? 是為實驗室技術人員設計的

? 小而緊湊的（不占空間）

? 小體積室意味著快速沉積和更少的前驅體廢物和深入滲透到三維結構

? 快速升溫（和降溫）時間

? 化學物質與反應物分離，因此不會沉積在管道，閥門等....

? 前驅體和腔體之間的長度短（減少線路堵塞的機會）

? 操作簡單（150個菜單連同標準配方）

為啥選擇Anric Technology???

世界主流的ALD廠家，如ASM International N.V.， Beneq，Picosun， Oxford Instruments，TEL等，這些大廠專注于工業化的ALD設備。

Anric Technology： 專注于小的迷你的、臺式的ALD設備，操作簡單，維修經濟方便，特別適用于科研用戶。

研發者介紹：

Philippe de Rouffignac， Ph.D 畢業于Harvard University，Department of Chemistry，導師Prof. Roy Gordon, 在讀博期間就設計開發了幾臺ALD設備，并在哈佛Center for Nanoscale Systems工作，期間進行了包括CVD/ALD預制器的開發，后出來創辦了Anric Technology，專注于迷你和臺式用于實驗室研究的ALD。